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第90章 光刻厂（第2页）

“这芯片设计优化，只是第一步，这第二步我还没说呢！”

众人的眼光再次投射到这个年轻人身上。

哦？你还有啥石破天惊的设想？

陈小川看到一众大佬纷纷把目光投到他身上，甚至还带着一些期许和赞许？

陈小川感到一阵暗爽，爽啊！

！

就像小学考了双百分收到全校表扬一样，站在讲台上接受全校老师和同学的称赞。

也像王有胜抢了军火库一般，脑袋抬得高高的。

陈小川看向周围一圈，全是期许的眼睛看着他

“我们的第二个阶段……就是关于芯片制造方面的事情，我们要自己干！”

“光刻机造不了！

光刻厂还造不了？”

全场震惊起来，大多数院士还以为又像上次一样，直接买技术，或者用特殊手段直接去收购了一些光刻机的企业，却没想到是直接跳过这一步自己干！

！

李院士很是好奇陈小川的想法，于是问

“哦，小川你有什么想法？”

钱立忍不住问，陈小川一个车辆工程硕士，能在芯片生产制造方面有什么想法？

“是啊！

你这双龙集团涉猎范围也太广了吧！

？这光刻机你们也干？”

陈小川没有直接回答，而是问出一个问题

“各位，我想问一下，光刻机的技术难点在哪里呢？”

一直对于光刻机这一板块有深刻研究的李院士沉声说

“在这一点上，我想我还是有发言权的。

光刻机研发最大的难点是光学系统，其实就是光源、还津和反光锋。

光刻机的光学器件难点，并不在镜片生产上，而在于校准、调试和成像质量补偿上。

先说最高端的极紫外光刻机EUV。

极紫外光刻机更困难的一个原因是原有的成熟镜片完全不能使用，因为所有的材料都会吸收极紫外光。

极紫外光不能再靠透镜来聚光，只能用反射镜。

要造极紫外光刻机，所有的光路和材料都必须重新设计。

普通的镜子即使加工再精良，也不能用到极紫外光的反射上。

目前使用的反光镜必须在表面上镀上均匀的钼硅多层高反射率薄膜，这个反射镜的制作和使用流程非常严格。

首先镀膜得均匀，不能含有杂质，而且必须在真空状态下使用。

其次加工好以后，其表面完整度必须非常高，得达到纳米级。

严格保证聚光效果，稍有不慎就会导致成像走形。”

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